光催化氧化设备的技术特点
时间:2022-08-15 17:12 来源:未知
 光催化氧化设备的技术***点 
  光催化氧化设备是一项成熟的工艺,工艺有效性的关键在于紫外线的强度和催化剂的催化能力以及催化时间。光催化应用技术工艺简单、成本低廉,利用自然光即可催化分解细菌和污染物,具有高催化活性、******的化学稳定性和热稳定性、无二次污染、无刺激性、安全无毒等***点,且能长期有益于生态自然环境,是具有开发前景的绿色环保催化技术之一。
  光催化氧化设备在技术上主要有以下***点:
  (1)低温深度反应:光催化氧化可在常温将空气、水和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的物质。而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化氧化方法也需要几百度的高温。
  (2)净化彻底:它直接将空气中的有机污染物,完全氧化成无毒无害的物质,不留任何无二次污染,目前广泛采用活性炭吸附法不分解污染物,只是将污染源转移。
  (3)绿色能源:光催化可利用太阳光作为能源来活化光催化剂,驱动氧化还原反应,而且光催化剂在反应过程中并不消耗。从能源角度而言,这一***征使光催化技术更具魅力。
  (4)氧化性强:***量研究表明,半导体光催化具有氧化性强的***点,对臭氧难以氧化的某些有机物如三氯甲烷、四氯化碳、六氯苯都能有效地加以分解,所以难以降解的有机物具有***别意义。
  (5)广谱性:光催化对从烃到羧酸的种类众多有机物有效,对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有极佳的去除效果,一般经过持续反应可达到完全净化。


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